原子转移自由基聚合法合成7-乙酰氧基-4-甲基香豆素分子印迹聚合物及吸附性能研究

以黄曲霉毒素结构类似物7-乙酰氧基-4-甲基香豆素为替代模板,甲基丙烯酸缩水甘油酯为单体,氯化苄为引发剂,氯化亚铜为过渡金属卤化物,2,2-联吡啶为配体,利用原子转移自由基聚合法合成分子印迹聚合物,通过一系列实验对其合成条件进行优化;对聚合物进行表征,并对其吸附黄曲霉毒素的能力进行研究。通过单因素实验和正交试验,得到最佳的合成条件:模板与功能单体的物质的量比为1∶80,引发剂的量为1.5%(单体的质量百分比),反应温度为60℃,过渡金属卤化物与配体的物质的量比为1∶3。在最优的合成条件下合成分子印迹聚合物,并将其作为填充材料制作固相萃取柱,用于选择性分离样品中的黄曲霉毒素,并与商品柱对比。