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| 铝基板磁控溅射离子镀铜的研究 | |
| 作者姓名： | 王玉魁 朱英臣 王斐杰 陈宝清 韩会民 |
| 作者单位： | 大连工学院离子镀研究室(王玉魁，朱英臣，王斐杰，陈宝清)，大连工学院离子镀研究室(韩会民) |
| 摘 要： | 磁控溅射是七十年代发展起来的一种新型溅射技术。由于沉积速度快、镀覆面积大、镀膜均匀,以及镀膜的附着性较好等优点,磁控溅射成了一种应用愈来愈广泛的涂覆技术,被用来在各种材料(金属、陶瓷、玻璃、塑料、涤纶薄膜和纸张等)表面上沉积各种用途的外接膜。关于磁控溅射镀膜技术已有相当多的论述,但是把磁控溅射技术做为金属材料表面合金化的一种手 |
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