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陶瓷球双自转盘研磨方式下研磨均匀性的研究
引用本文:陶宝春,王志伟,吕冰海,黄建平,何雪华,袁巨龙. 陶瓷球双自转盘研磨方式下研磨均匀性的研究[J]. 金刚石与磨料磨具工程, 2006, 304(4): 43-47
作者姓名:陶宝春  王志伟  吕冰海  黄建平  何雪华  袁巨龙
作者单位:浙江工业大学精密工程研究中心,杭州,310014;哈尔滨工业大学机电工程学院,哈尔滨,150001
摘    要:对陶瓷球在双自转研磨盘研磨方式下的研磨均匀性进行仿真分析,表明研磨均匀性不仅取决于自旋角θ变化范围,而且取决于θ角的变化过程和球的自转角速度ωb的变化。对研磨均匀性来说,转速比函数幅值影响较大,相位的影响是很小,可以忽略。当内外下盘转速之比从0到2倍的进行连续周期变化时,可以得到较好的研磨均匀性,变化过程任意。

关 键 词:陶瓷球  双自转研磨盘研磨方式  转速比函数  研磨均匀性
文章编号:1006-852X(2006)04-0043-05
修稿时间:2006-04-21

Simulation analysis on lapping uniformity of ceramic balls under dual rotating plates lapping mode
Tao Baochun,Wang Zhiwei,Lv Binghai,Huang Jianping,He Xuehua,Yuan Julong. Simulation analysis on lapping uniformity of ceramic balls under dual rotating plates lapping mode[J]. Diamond & Abrasives Engineering, 2006, 304(4): 43-47
Authors:Tao Baochun  Wang Zhiwei  Lv Binghai  Huang Jianping  He Xuehua  Yuan Julong
Abstract:
Keywords:ceramic balls  dual rotating plates lapping mode  speed ratio function  lapping uniformity
本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录!
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