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| CCl_4作XeCl准分子激光介质的研究 | |
| 引用本文： | 李昭临,胡雪金,车明瑜,沈德立,赵震声,陈永荣,曹洪如.CCl_4作XeCl准分子激光介质的研究[J].量子电子学报,1986(4). |
| 作者姓名： | 李昭临 胡雪金 车明瑜 沈德立 赵震声 陈永荣 曹洪如 |
| 作者单位： | 中国科学院安徽光学精密机械研究所十室 (李昭临，胡雪金，车明瑜，沈德立，赵震声，陈永荣)，中国科学院安徽光学精密机械研究所十室(曹洪如) |
| 摘 要： | 对于形成XeCl准分子激光的Cl供体,人们进行过大量的研究,目的是寻找一种分子,它们能在电子碰撞或紫外光照射后形成Cl~-,并最终复合为XeCl,而又不产生其他副产物而使激光猝灭。已经研究过的分子有HCl,BCl_3,CH_2Cl_2,CHCl_3,C_2H_2Cl_2,C_2F_3Cl_3及CCl_4 |
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