|
|||||
|
|
| DMF中脉冲电沉积Nd—Co合金膜 | |
| 引用本文： | 谷历文,刘冠昆.DMF中脉冲电沉积Nd—Co合金膜[J].材料保护,1998,31(8):8-10. |
| 作者姓名： | 谷历文 刘冠昆 |
| 摘 要： | 研究了室温下在含有少量水的ＮｄＣｌ３－ＣｏＣｌ２ＤＭＦ溶液中Ｎｄ－Ｃｏ功能合金膜的电沉积。应用脉冲电镀制备出不同质量的合金膜。试验结果表明：Ｄ ０．４５ｍｏｌ／ＬＮｄＣｌ３＋０．０５ｍｏｌ／ＬＣｏＣｌ２＋适量乙二胺的ＤＭＦ电镀液中，控制脉电流密度为１００－１５０Ａ／ｍ＾２，可得到有金属光泽的灰色稀土合金膜。 |
| 关 键 词： | 电沉积 电镀 镀合金 DMF 钕钴合金 |
| 本文献已被 维普 等数据库收录！ | |