| 偏滤器材料溅射过程的数值研究(英文) |
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| 引用本文： | 邓柏权,彭利林,严建成,黄锦华. 偏滤器材料溅射过程的数值研究(英文)[J]. 中国核科技报告, 2003, 0(1) |
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| 作者姓名： | 邓柏权 彭利林 严建成 黄锦华 |
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| 作者单位： | 核工业西南物理研究院，核工业西南物理研究院，核工业西南物理研究院，核工业西南物理研究院 成都，610041，成都，610041，成都，610041，成都，610041 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金资助项目 (19889502 和 10085001).~~ |
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| 摘 要： | 为了估计一些偏滤器材料的腐蚀速率,应用一种描述溅射物理过程的新方法,基于离子输运的双群模型计算了一些偏滤器材料:钼、钨和锂在聚变带电粒子H+,D+,T+和He++的轰击下的溅射产额,并与 Monte-Carlo 方法计算得到的结果作了比较。这些结果对估计面对等离子体的部件寿命和分析聚变堆堆芯等离子体中的杂质水平估计是很有用的。
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| 关 键 词： | 偏滤器材料 溅射过程 数值研究 |
Numerical Study of Sputtering Process in Divertor Materials |
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| DENG Baiquan PENG Lilin YAN Jiancheng HUANG Jinhua. Numerical Study of Sputtering Process in Divertor Materials[J]. China Nuclear Science and Technology Report, 2003, 0(1) |
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| Authors: | DENG Baiquan PENG Lilin YAN Jiancheng HUANG Jinhua |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | Divertor materials Sputtering process Numerical study |
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