| 亚微米器件制造技术的发展动态 |
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| 引用本文： | 范焕章,黎想. 亚微米器件制造技术的发展动态[J]. 半导体技术, 2000, 25(1): 8-10,18 |
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| 作者姓名： | 范焕章 黎想 |
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| 作者单位： | 华东师范大学电子系,上海,200062 |
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| 摘 要： | 主要从光刻隔离，金属互连线三个方面讨论了亚微米器件所面临的挑战及其发展趋势。
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| 关 键 词： | 亚微米器件 光刻 隔离 金属互连线 制造技术 |
Trends in the Submicrometer Devices Technology |
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| Fan Huanzhang,Li Xiang. Trends in the Submicrometer Devices Technology[J]. Semiconductor Technology, 2000, 25(1): 8-10,18 |
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| Authors: | Fan Huanzhang Li Xiang |
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| Abstract: | This paper discusses the challenges that the submicrometer devices face and the trends in the submicrometer device technology from the pointview of lithography,isolation and metal interconnect. |
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| Keywords: | Submicrometer device Technology Trend |
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