| LIVCD法制备纳米氮化硅粉末工艺参数对粉体特征影响的研究 |
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| 引用本文： | 黄永攀,李道火,王锐,黄伟. LIVCD法制备纳米氮化硅粉末工艺参数对粉体特征影响的研究[J]. 光电子技术与信息, 2005, 18(1): 27-29 |
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| 作者姓名： | 黄永攀 李道火 王锐 黄伟 |
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| 作者单位： | 1. 中科院安徽光学精密机械研究所,安徽,合肥,230031;山东道钬纳米技术研究院,山东,济南,250100
2. 中科院安徽光学精密机械研究所,安徽,合肥,230031 |
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| 摘 要： | 激光诱导气相沉积法是制备纳米氮化硅粉末的主要方法之一。在制备纳米粉体过程中，各工艺参数的变化对粉体特征有很大的影响。在激光制Si3N4纳米粉中基本的运行参数有：激光强度(I)，反应池压力(P)，反应火焰温度(T)，反应气体配比(ΦSiH4/ΦNH3)，反应气体流速(V)等。通过实验研究了各个工艺参数对粉体特征的影响并分析了其影响的原因。
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| 关 键 词： | 激光诱导化学气相沉积 氮化硅 纳米 |
| 文章编号： | 1006-1231(2005)01-0027-03 |
| 修稿时间： | 2004-02-28 |
Study on the Technics Parameter''''s Influence to the Character of Nano Si3N4 Powder Fabricated by LIVCD |
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