电子束和热退火后处理的射频溅射沉积ZrO2—Y2O3薄膜的结构特征

对射频磁控溅射沉积的ＺｒＯ２－１２ｗｔ％Ｙ２Ｏ３薄膜进行了电子束处理和热退火处理。通过ＸＲＤ，ＸＰＳ，ＳＥＭ等的微观分析，研究了薄膜的相结构组成，薄膜主要组成元素的氧化态以及薄膜的形貌特征。并对以提高薄膜增韧性为目的而进行的后处理的方式选择作了讨论。