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责任编辑
分类号
杂志ISSN号
基片等离子处理对PTFE微波基板性能的影响
作者姓名:
金霞
韩笑
薛微婷
冯春明
冯贝贝
作者单位:
中国电子科技集团公司第四十六研究所
摘 要:
采用等离子处理对聚四氟乙烯(PTFE)基片进行表面处理,研究气体流量、放电功率、处理时间的变化对PTFE基片微观形貌和接触角的影响,进而研究对PTFE微波基板介质损耗、吸水率、剥离强度等综合性能的影响。实验结果表明,等离子体处理可以有效增加基片表面粗糙度,降低PTFE基片的接触角,提高其表面能,使覆铜箔层压板的铜箔与介质层之间结合强度提升,制备的PTFE微波基板的剥离强度可接近未处理之前剥离强度的3倍。
关 键 词:
等离子
聚四氟乙烯
微波基板
接触角
介质损耗
吸水率
剥离强度
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