《IBS—300型》离子束溅射装置

由于离子束溅射法可以在高真空条件下成膜,能够精确地控制膜的生长过程,生长出理想的合金和化合物,而且可在室温附近成膜。因此可用以生长出所有无机材料和各种结晶构造的膜。但是,由于装置的构造复杂,价格高,成膜速度缓慢,成膜面积受到限制等问题,现在成膜的例子大部分还处于研究开发阶段。最近,由于研制成输出束流大的离子枪,因而大幅度地提高了成膜速度,使这种技术向实用化的方向迈进了一大步。