首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
     

二氧化硅膜的选择性沉积
作者姓名:贾正根
作者单位:南京电子器件研究所
摘    要:本文介绍用二氧化硅膜的选择性沉积法来制造精细图形,可获得0.12μm,间距0.08μm的精细图形。文中具体介绍了制造工艺及沉积原理。

关 键 词:二氧化硅 薄膜 选择性沉积
本文献已被 CNKI 维普 等数据库收录!
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号