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| 多室连续式PECVD装置 | |
| 引用本文： | 杨基南.多室连续式PECVD装置[J].微细加工技术,1989(2):33-35. |
| 作者姓名： | 杨基南 |
| 作者单位： | 长沙半导体工艺设备研究所 |
| 摘 要： | 多室连续式PECVD装置可实现多层薄膜的连续淀积,是制备PIN结构非晶硅太阳能叠层电池的重要设备。本文介绍我们研制的PECVD—L425型连续淀积设备的结构特点和调试结果。 |
| 关 键 词： | PECVD 连续式 设备 |
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