| 烧成温度对高铬砖显微结构的影响 |
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| 引用本文： | 齐晓青,王玉范,张宏达.烧成温度对高铬砖显微结构的影响[J].耐火材料,2003,37(2):66-68. |
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| 作者姓名： | 齐晓青 王玉范 张宏达 |
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| 作者单位： | 洛阳耐火材料研究院高级耐火材料厂,洛阳,471039 |
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| 摘 要： | 利用扫描电子显微镜分析了 170 0℃、174 0℃、1780℃、182 0℃和 186 0℃烧成后高铬砖的显微结构。结果表明 :高铬砖的烧成温度不是越高越好 ,而是有一个合适的烧成温度 174 0℃。在该烧成温度下制得的高铬砖 ,其基质中的Cr2 O3晶粒尺寸适中 ,基质组织结构致密 ,基质和颗粒结合紧密 ,无裂纹 ,并且其力学性能最佳。
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| 关 键 词： | 高铬砖 显微结构 烧成温度 |
| 修稿时间： | 2002年6月18日 |
Effect of sintering temperature on microstructure of high chrome brick |
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| Qi Xiaoqing,Wang Yufan,Zhang Hongda Advanced Refractories Factory,Luoyang Institute of Refractories Research,Luoyang ,China.Effect of sintering temperature on microstructure of high chrome brick[J].Refractories,2003,37(2):66-68. |
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| Authors: | Qi Xiaoqing Wang Yufan Zhang Hongda Advanced Refractories Factory Luoyang Institute of Refractories Research Luoyang China |
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| Affiliation: | Qi Xiaoqing,Wang Yufan,Zhang Hongda Advanced Refractories Factory,Luoyang Institute of Refractories Research,Luoyang 471039,China |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | High chrome brick Microstructure Sintering temperature |
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