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| CdS薄膜的可见和近红外光谱性能研究 | |
| 作者单位： | ;1.中国科学院上海技术物理研究所 红外物理国家重点实验室;2.上海太阳能电池研究与发展中心;3.西安工业大学光电工程学院 |
| 摘 要： | 在康宁7059玻璃衬底上采用磁控溅射、化学水浴和近空间升华法制备CdS薄膜,在FTO、ITO、AZO衬底上采用磁控溅射法制备CdS薄膜。分别对两组CdS薄膜的形貌、结构和光学性能进行了研究,结果表明:采用不同工艺和衬底条件制备的CdS薄膜具有不同的形貌和结构,并表现出不同的光学性能。对于不同的制备技术,化学水浴法制备的CdS薄膜在520～820nm范围的光谱平均透过率最高,光学带隙最大为2.418eV,磁控溅射法制备的CdS薄膜在820～1200nm和520～1200nm范围的光谱平均透过率最高。对于不同的衬底条件,在FTO衬底上磁控溅射制备的CdS薄膜在820～1200nm和520～1200nm范围的光谱平均透过率最高。 |
| 关 键 词： | CdS薄膜 光谱透过率 可见和近红外光谱 |
Visible-near Infrared Spectral Transmittance Properties for CdS Films |
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| Keywords: | |