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离子镀过程中基体“热影响区”的演变及其对镀层的影响
作者姓名:郭腾  李洪涛  蒋百灵  邢益彬  张新宇
作者单位:西安理工大学材料科学与工程学院;南京工业大学材料科学与工程学院;
摘    要:以淬火态40Cr Ni Mo A为基材,研究了靶功率密度对"热影响区"升温幅度、区域尺度及镀层结构的影响规律。结果表明,随着靶功率密度从20.61 W/cm~2提高到143.01 W/cm~2,不仅与镀层比邻的基体温度从310℃升高到525℃、"热影响区"的尺度从0.37 mm增加到2.51 mm,而且纯Ti镀层的择优取向由(002)转变为(110),平均晶粒尺寸由9.9 nm增大至19.5 nm,表面粗糙度先减小后增大。同时,当基体温度大于300℃时,镀层的内应力随着晶格微观缺陷的消除而释放。

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