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薄膜内应力的起源
引用本文:范玉殿,周志烽.薄膜内应力的起源[J].材料科学与工程,1996,14(1):5-12.
作者姓名:范玉殿  周志烽
作者单位:[1]清华大学 [2]佛山市陶瓷研究所
摘    要:薄膜内应力的存在是薄膜生产、制备过程中的普遍现象,应力的产生与薄膜的成核、生长以及微观结构密切相关,本文综述了目前已提出的各种有关应力起源的理论模型,并对磁控溅射Co-Cr和Gd-Fe二元合金薄膜的应力产生机制进行讨论。

关 键 词:薄膜  应力  微观结构
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