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四配位非晶碳薄膜的研究进展
引用本文:魏爱香,周友国. 四配位非晶碳薄膜的研究进展[J]. 新型炭材料, 2000, 15(4): 75-79
作者姓名:魏爱香  周友国
作者单位:海军广州舰艇学院,广东,广州,510431
基金项目:广东省自然科学基金!(9945 6 0 )
摘    要:四配位非碳薄膜是近年来发展的一种新型宽带隙半导体材料,具有独特的物理化学特性,本文对四配位非晶碳薄膜的研究意义,制备方法,形成机理,结构和性能表征及应用前景作较全面的介绍。

关 键 词:四配位非晶碳薄膜 制备方法 形成机理 结构 性能

REVIEW OF THE TETRAHEDRAL AMORPHOUS CARBON FILM
WEI Ai-xiang,ZHOU You-guo. REVIEW OF THE TETRAHEDRAL AMORPHOUS CARBON FILM[J]. New Carbon Materials, 2000, 15(4): 75-79
Authors:WEI Ai-xiang  ZHOU You-guo
Abstract:Tetrahedral amorphous carbon films (ta C) have become a new type of wide band gap amorphous materials because of its valuable physical and chemical properties. In this paper, the deposition process, growth mechanism, basic properties and application of ta C films are reviewed.
Keywords:Tetrahedral amorphous carbon  Deposition process  Growth mechanism  Structure and properties  Application
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