直流磁控溅射膜厚分布实测与数值模拟研究 |
| |
引用本文: | 王誉,张茂彩,辛博,崔红兵,娄树普.直流磁控溅射膜厚分布实测与数值模拟研究[J].真空科学与技术学报,2022(1):37-45. |
| |
作者姓名: | 王誉 张茂彩 辛博 崔红兵 娄树普 |
| |
摘 要: | 基于直流磁控溅射的基本原理,通过对小圆形磁控溅射平面靶的特点分析,建立了磁控溅射系统的几何模型,推导出了膜厚分布的数学理论模型.借助MATLAB数学软件,计算了不同靶基距下膜厚分布的理论数据,分析了靶基距变化时膜厚分布的特点.实测了两种不同靶基距下膜厚的分布,通过与理论数据的对比,验证了模型的可靠性.理论模型与实测数据...
|
关 键 词: | 磁控溅射 理论模型 膜厚分布 靶基距 薄膜 |
|
|