| 氢气浓度对常压化学气相沉积ZrC涂层的影响 |
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| 引用本文： | 李国栋,郑湘林,熊翔,孙威. 氢气浓度对常压化学气相沉积ZrC涂层的影响[J]. 中国有色金属学报, 2010, 20(9) |
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| 作者姓名： | 李国栋 郑湘林 熊翔 孙威 |
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| 作者单位： | 中南大学,粉末冶金国家重点实验室,长沙,410083 |
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| 基金项目： | 国家高技术研究发展计划资助项目，国家自然科学基金创新研究群体项目，国家重点基础研究发展计划资助项目 |
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| 摘 要： | 采用ZrCl4-CH4-H2-Ar体系在C/C材料基体上进行常压化学气相沉积(APCVD)制备碳化锆(ZrC)涂层.通过X射线衍射技术(XRD)和扫描电镜(SEM)对不同H2浓度下制备的ZrC涂层进行分析.对H2在沉积过程中的作用机制进行了讨论.结果表明:H2浓度对涂层的相组成、晶体的择优取向和结构形态有重要影响;无H2或H2浓度较低时,涂层含有大量的热解碳,由ZrC和碳两相组成,涂层呈多孔颗粒状;当H2浓度(体积分数)增加到30%以上时,涂层的相成分变为单一ZrC相;当H2的浓度增加到90%时,ZrC晶体取向由(111)、(200)转变为强烈的(220)择优取向,晶粒形貌变为纳米针状.
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| 关 键 词： | ZrC涂层 常压化学气相沉积 H2浓度 择优取向 |
Effect of hydrogen concentration on preparation of ZrC coating by APCVD |
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| LI Guo-dong,ZHENG Xiang-lin,XIONG Xiang,SUN Wei. Effect of hydrogen concentration on preparation of ZrC coating by APCVD[J]. The Chinese Journal of Nonferrous Metals, 2010, 20(9) |
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| Authors: | LI Guo-dong ZHENG Xiang-lin XIONG Xiang SUN Wei |
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