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用于亚微米图形加工的离轴照明技术
作者姓名:童志义 陈英
作者单位:电子工业部第45研究所
摘    要:本文主要介绍了国外用于提高光学片子步进机成像性能的高分辨率、大焦深的离轴照明技术。通过几种照明技术的比较,指出了可用于亚半微米器件图形转印的环形照明技术在未来64M~256MDRAM器件时代进行规模生产的潜力所在。

关 键 词:亚微米图形加工,光学步进机曝光,离轴照明
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