| TiN薄膜制备方法、性能及其应用的研究进展 |
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| 引用本文： | 季鑫,宓一鸣,周细应.TiN薄膜制备方法、性能及其应用的研究进展[J].热加工工艺,2009,38(4). |
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| 作者姓名： | 季鑫 宓一鸣 周细应 |
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| 作者单位： | 1. 上海工程技术大学,材料工程学院,上海,201620
2. 上海工程技术大学,基础教学学院,上海,201620 |
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| 基金项目： | 上海工程技术大学创新基金，上海市科技发展项目，上海市重点学科建设项目 |
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| 摘 要： | 综述了TiN薄膜的制备方法及进展,介绍了物理气相沉积、化学气相沉积、等离子化学气相沉积及光化学气相沉积等各种TiN薄膜的制备方法,评述了各种制备工艺的优缺点.介绍了TiN薄膜在超硬耐磨、耐腐蚀等方面研究的新进展,最后对TiN薄膜的应用范围和领域作了展望.
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| 关 键 词： | TiN薄膜 气相沉积 激光熔融 离子镀 |
Research Progress of Preparation Technology,Properties and Application Development of TiN Thin Film |
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| JI Xin,MI Yiming,ZHOU Xiying.Research Progress of Preparation Technology,Properties and Application Development of TiN Thin Film[J].Hot Working Technology,2009,38(4). |
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| Authors: | JI Xin MI Yiming ZHOU Xiying |
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