| 氧分压对HfOxNy薄膜结构和光学性能的影响 |
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| 引用本文： | 刘伟,苏小平,张树玉,郝鹏,王宏斌,刘嘉禾,阎兰琴. 氧分压对HfOxNy薄膜结构和光学性能的影响[J]. 激光与红外, 2007, 37(12): 1307-1310 |
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| 作者姓名： | 刘伟 苏小平 张树玉 郝鹏 王宏斌 刘嘉禾 阎兰琴 |
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| 作者单位： | 北京国晶辉红外光学科技有限公司,北京有色金属研究总院,北京,100088;北京国晶辉红外光学科技有限公司,北京有色金属研究总院,北京,100088;北京国晶辉红外光学科技有限公司,北京有色金属研究总院,北京,100088;北京国晶辉红外光学科技有限公司,北京有色金属研究总院,北京,100088;北京国晶辉红外光学科技有限公司,北京有色金属研究总院,北京,100088;北京国晶辉红外光学科技有限公司,北京有色金属研究总院,北京,100088;北京国晶辉红外光学科技有限公司,北京有色金属研究总院,北京,100088 |
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| 摘 要： | 用磁控反应溅射法在不同氧分压下制备了氮氧化铪薄膜.沉积过程在氧气、氮气和氩气的气氛中进行,衬底为多光谱ZnS,沉积温度为室温.用X射线衍射、扫描电镜、原子力显微镜、傅里叶变换红外光谱仪、紫外-可见分光光度计等分别研究了不同氧分压下HfOxNy薄膜的晶体结构、显微结构、光学性能等.XRD分析表明随着氧分压的降低,薄膜的晶体结构由氧化铪转变为氮氧化铪相;SEM和AFM分析表明不同氧分压下沉积的薄膜都为柱状结构,氧分压较低时薄膜表面粗糙度较大;镀膜之后,在0.35～2μm范围内,薄膜的透过率变化有显著差异,在2～12μm波段,薄膜透过率和未镀膜衬底透过率相当,变化不明显.
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| 关 键 词： | 氮氧化铪薄膜 磁控反应溅射 晶体结构 显微结构 光学性能 |
| 文章编号： | 1001-5078（2007）12-1307-04 |
| 收稿时间： | 2007-10-09 |
| 修稿时间： | 2007-10-09 |
Effect of Oxygen Partial Pressure on the Structure and Optical Properties of HfOxNy Thin Films |
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| LIU Wei,SU Xiao-ping,ZHANG Shu-yu,HAO Peng,WANG Hong-bin,LIU Jia-he,YAN Lan-qin. Effect of Oxygen Partial Pressure on the Structure and Optical Properties of HfOxNy Thin Films[J]. Laser & Infrared, 2007, 37(12): 1307-1310 |
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| Authors: | LIU Wei SU Xiao-ping ZHANG Shu-yu HAO Peng WANG Hong-bin LIU Jia-he YAN Lan-qin |
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| Affiliation: | Beijing Guojing Infrared Optical Technology Co.,Ltd,Beijing General Research Institute for Nonferrous Metals,Beijing 100088,China |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | HfOxNy thin films radio frequency reactive magnetron sputtering crystallographic structure microstructure optical properties |
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