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核壳结构WO_3/V_2O_5纳米线复合薄膜的制备及其电致变色性能研究
引用本文:汤凯,张勇,史英迪,宋艳斌,崔接武,王岩,舒霞,郑红梅,秦永强,刘家琴,吴玉程.核壳结构WO_3/V_2O_5纳米线复合薄膜的制备及其电致变色性能研究[J].真空科学与技术学报,2018(2).
作者姓名:汤凯  张勇  史英迪  宋艳斌  崔接武  王岩  舒霞  郑红梅  秦永强  刘家琴  吴玉程
作者单位:合肥工业大学材料科学与工程学院;先进功能材料与器件安徽省重点实验室;合肥工业大学工业与装备技术研究院;
摘    要:采用溶剂热法在氟掺杂的锡氧化物导电玻璃衬底上成功合成制备了长度为400~2000 nm,从基底(80 nm)到尖端(30 nm)锥状塔式WO_3纳米线薄膜,进而通过电化学沉积法在WO_3纳米线表面均匀沉积V_2O_5纳米颗粒,从而得到核壳结构WO_3/V_2O_5纳米线复合薄膜。运用X射线衍射、扫描电子显微镜等手段对复合薄膜进行表征,并运用循环伏安法、计时电流法和紫外可见光谱分析研究了该复合薄膜的电化学性能和光学性能。结果表明,与单一的V_2O_5薄膜相比,该复合薄膜的电致变色性能获得了显著增强。具有更好的循环稳定性、更大的透射率调制幅度(776 nm为67%)和更高的着色效率(776nm为13.5 cm2/C)。该法制备WO_3/V_2O_5核壳纳米结构电致变色综合性能优良,有望在隐身材料和智能变色薄膜材料等领域得到广泛应用。

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