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| 干法腐蚀的抗蚀剂系统研究 | |
| 作者姓名： | 管慧 |
| 作者单位： | 机电部第四十七研究所 沈阳110032 |
| 摘 要： | 本文讨论了干法腐蚀工艺中作掩蔽的抗蚀剂和抗蚀剂系统.分析了在以等离子体为主的干法腐蚀工艺中增强抗蚀剂耐腐蚀能力、降低抗蚀剂腐蚀速率的几种方法.通过实验表明,等离子腐蚀前对抗蚀剂进行等离子体辐照的抗蚀剂处理技术,非常适合于目前国内半导体工艺3～5μm微细加工的需要. |
| 关 键 词： | 干法腐蚀 抗蚀剂系统 等离子辐照 |
| 本文献已被 CNKI 等数据库收录！ | |
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