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杂志ISSN号
磁控溅射法渗镝对烧结钕铁硼性能及显微结构的影响
作者姓名:
张丽娇
冒守栋
杨丽景
何燕霖
宋振纶
许赪
作者单位:
上海大学材料科学与工程学院;中国科学院宁波材料技术与工程研究所中国科学院磁性材料与器件重点实验室;
摘 要:
采用磁控溅射法在钕铁硼表面沉积一层金属Dy,高温扩散后,Dy扩散进入磁体内部,与磁体中Nd发生置换,形成均匀连续的富Nd相,并在主相晶粒表层区域形成(Nd,Dy)2Fe14B相,扩散深度约为350μm。其中,厚度为10 mm的无Dy磁体和低Dy含量磁体添加1%Dy(质量分数)后,经扩散处理,矫顽力分别提高了52.1%和32.2%。结果表明,经磁控溅射法渗镝,钕铁硼矫顽力显著提高,剩磁无明显降低。
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