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| NiCo2O4薄膜的制备及其磁电性能研究 | |
| 作者姓名： | 周国伟 康鹏华 |
| 作者单位： | 山西师范大学化学与材料科学学院磁性分子与磁信息材料教育部重点实验室 |
| 基金项目： | 国家自然科学基金青年基金项目（51901118）资助; |
| 摘 要： | 采用脉冲激光沉积(PLD)技术,在氧化镁(MgO(001))、钛酸锶(SrTiO3(001))和铝酸镁(MgAl2O4(001))3 种衬底上,外延生长钴酸镍(NiCo2O4)薄膜。采用原子力显微镜(AFM)和 X 射线衍射仪(XRD)对 NiCo2O4薄膜进行形貌表征和结构分析,测试结果表明 NiCo2O4薄膜具有平整的表面和优异的结晶度。采用综合物性测量系统(PPMS)测试 NiCo2O4薄膜的电输运及磁性能,通过对比发现在 MgO(001)和 SrTiO3(001)衬底上生长的NiCo2O4薄膜呈半导体特性,并且磁性较弱,而在MgAl2O4(001)衬底上生长的NiCo2O4薄膜具有金属性和... |
| 关 键 词： | 脉冲激光沉积 NiCo2O4薄膜 金属性 室温亚铁磁 垂直磁各向异性 |