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| 微细图形的微小尺寸测量 | |
| 引用本文： | 中沢喜和雄,龙自强.微细图形的微小尺寸测量[J].压电与声光,1979(1). |
| 作者姓名： | 中沢喜和雄 龙自强 |
| 作者单位： | 日本光学 |
| 摘 要： | 本文叙述关于用光学法自动测量集成电路和大规模集成电路用的掩模或基片上所形成的微细图形尺寸的方法.图1是利用放大的光学象测量掩模图形线宽方法之一例.掩模置于可沿x-y方向定位的工件台上,由透射光照明,要测的图形,经过显微镜光学系统放大成象,在成象面上,沿着图形线宽的测量方向放 |
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