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靶/基距对CrTiAlN薄膜性能影响的研究
引用本文:金杰,李娜,田正磊,李浩.靶/基距对CrTiAlN薄膜性能影响的研究[J].浙江工业大学学报,2013(1):73-75,115.
作者姓名:金杰  李娜  田正磊  李浩
作者单位:浙江工业大学机械工程学院
摘    要:利用闭合场非平衡磁控溅射离子镀设备在H13热作模具钢基体上沉积了CrTiAlN薄膜.采用SEM、EDS、维氏显微硬度计、涂层附着力划痕仪等测试仪器对薄膜的形貌和成分进行了表征和分析,测得了薄膜的表面显微硬度和膜/基结合力,并采用摩擦磨损试验仪对薄膜的摩擦磨损性能进行了测试.研究和分析了不同靶/基距对CrTiAlN薄膜的厚度、成分和性能的影响.

关 键 词:靶/基距  CrTiAlN  显微硬度  膜/基结合力  摩擦磨损性能

The effect of target-substrate distance on performance of CrTiAlN film
JIN Jie,LI Na,TIAN Zheng-lei,LI Hao.The effect of target-substrate distance on performance of CrTiAlN film[J].Journal of Zhejiang University of Technology,2013(1):73-75,115.
Authors:JIN Jie  LI Na  TIAN Zheng-lei  LI Hao
Affiliation:(College of Mechanical Engineering,Zhejiang University of Technology,Hangzhou 310032,China)
Abstract:
Keywords:
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