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碳纳米管原位包覆金属锡纳米线的制备方法及其生长机理
引用本文:谭俊军,寿庆亮,牛强,孙晨曦,崔白雪,张孝彬. 碳纳米管原位包覆金属锡纳米线的制备方法及其生长机理[J]. 材料科学与工程学报, 2010, 28(4)
作者姓名:谭俊军  寿庆亮  牛强  孙晨曦  崔白雪  张孝彬
作者单位:浙江大学,材料系,硅材料国家重点实验室,浙江,杭州,310027;浙江大学,材料系,硅材料国家重点实验室,浙江,杭州,310027;浙江大学,材料系,硅材料国家重点实验室,浙江,杭州,310027;浙江大学,材料系,硅材料国家重点实验室,浙江,杭州,310027;浙江大学,材料系,硅材料国家重点实验室,浙江,杭州,310027;浙江大学,材料系,硅材料国家重点实验室,浙江,杭州,310027
摘    要:采用直接沉淀法制备出粒径为10nm以下的二氧化锡(SnO2)颗粒,将其作为前躯体采用CVD法原位生长碳纳米管,通过XRD、SEM、TEM等方法观察了该复合物的微观结构,对其生长机理做出了合理的推断。

关 键 词:锡纳米线  原位包覆  碳纳米管  CVD  生长机理

In-situ Preparation of CNT-encapsulated Sn Nanowires and Investigation of the Growth Mechanism
TAN Jun-jun,SHOU Qing-liang,NIU Qing,SUN Chen-xi,CUI Bai-xue,ZHANG Xiao-bin. In-situ Preparation of CNT-encapsulated Sn Nanowires and Investigation of the Growth Mechanism[J]. Journal of Materials Science and Engineering, 2010, 28(4)
Authors:TAN Jun-jun  SHOU Qing-liang  NIU Qing  SUN Chen-xi  CUI Bai-xue  ZHANG Xiao-bin
Affiliation:TAN Jun-jun,SHOU Qing-liang,NIU Qing,SUN Chen-xi,CUI Bai-xue,ZHANG Xiao-bin(State Key Lab of Silicon Materials,Department of Materials Science , Engineering,Zhejiang University,Hangzhou 310027,China)
Abstract:SnO_2 nanoparticles with an average diameter less than 10 nanometers have been synthesized by chemical precipitation method.CNT-encapsulated Sn nanowires were prepared by a chemical vapor deposition(CVD) method over as-synthesized SnO_2 nanoparticles.CNT-encapsulated Sn nanowires were characterized by X-ray diffractometry(XRD),transmission electron microscopy(TEM),scanning electron microscopy(SEM).Its growth mechanism was investigated.
Keywords:Sn nanowires  in-situ encapsulation  carbon nanotube(CNT)  CVD  growth mechanism  
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