| 甲基修饰二氧化硅膜的表面自由能与表面结构EI北大核心 |
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| 引用本文： | 杨靖,陈杰瑢.甲基修饰二氧化硅膜的表面自由能与表面结构EI北大核心[J].材料工程,2008(10):177-182. |
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| 作者姓名： | 杨靖 陈杰瑢 |
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| 作者单位： | 1.西安交通大学能源与动力工程学院710049;2.西安工程大学环境与化学工程学院710048; |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金(20877062)；高等学校博士学科点专项科研基金(20060698002)；中国纺织工业协会科技指导性计划(2007056)；陕西省教育厅自然科学专项基金(05JK208)；陕西省自然科学基金(2005B11)资助项目 |
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| 摘 要： | 以正硅酸乙酯(TEOS)、甲基三乙氧基硅烷(MTES)为硅源,硝酸为催化剂,制备了甲基修饰的二氧化硅膜,研究了MTES改性二氧化硅膜的表面润湿性与表面结构的关系以及MTES改性二氧化硅膜的吸水率。用已知表面张力的液体测定接触角,按扩展的Fowkes式计算试样的表面张力γS及其三组分值γSd(色散力)、γSP(偶极矩力)和γSh(氢键力),用热重分析(TG)法测定二氧化硅膜的吸水率。结果表明,随着MTES/TEOS摩尔比增大,二氧化硅膜的表面自由能显著减小,表面润湿性降低,主要是表面张力中氢键力组分的贡献。X射线光电子能谱分析表明,这是由于二氧化硅颗粒表面Si—CH3基团增加而Si—O和O—H基团减小所致。随着MTES/TEOS摩尔比增大,二氧化硅膜的吸水率降低,疏水性二氧化硅膜的MTES/TEOS摩尔比应大于0.8。
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| 关 键 词： | 二氧化硅膜 表面自由能 润湿性 疏水性 XPS |
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