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MnO—PbO—ZnO系统虹彩釉工艺过程的探讨
引用本文:王秀文,董秀珍. MnO—PbO—ZnO系统虹彩釉工艺过程的探讨[J]. 中国陶瓷, 2001, 37(2): 32-36
作者姓名:王秀文  董秀珍
作者单位:王秀文(唐山大学,唐山 063000)      董秀珍(唐山大学,唐山 063000)
摘    要:本文讨论了添加NH3VO3的MnO-PbO-ZnO系统虹彩釉的工艺过程,探讨了釉浆细度、施釉方法、釉层厚度和烧成工艺制度等对釉性能的影响,认为该组成虹彩釉最合适的釉浆细度为万孔筛筛余0.03%,最佳施釉方法为浸釉和喷釉,釉层厚度0.35mm,最佳烧成温度1180-1210℃,最佳保温温度860℃左右,保温时间10-15分钟。

关 键 词:陶瓷釉 虹彩釉 釉面性能 虹彩效果 MnO-PbO-ZnO系
文章编号:1001-9642(2001)02-0032-05
修稿时间:2000-12-04

AN APPROACH TO THE PROCESSING OF MnO-PbO-ZnO SYSTEM LUSTER GLAZE
WANG Xiu-wen DONG Xiu-zhen. AN APPROACH TO THE PROCESSING OF MnO-PbO-ZnO SYSTEM LUSTER GLAZE[J]. China Ceramics, 2001, 37(2): 32-36
Authors:WANG Xiu-wen DONG Xiu-zhen
Abstract:
Keywords:luster glaze  property of glaze  effect of luster  
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