| 薄膜磁头磁轭制备工艺研究 |
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| 引用本文： | 赵小林,周狄.薄膜磁头磁轭制备工艺研究[J].微细加工技术,1997(3):58-62. |
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| 作者姓名： | 赵小林 周狄 |
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| 作者单位： | 上海交通大学信息存储研究中心!上海，200030，上海交通大学信息存储研究中心!上海，200030，上海交通大学信息存储研究中心!上海，200030，上海交通大学信息存储研究中心!上海，200030 |
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| 摘 要： | 本文重点讨论了用不同的工艺方法来制备薄膜磁头中的关键元件-磁轭。采用多次光刻的方法克服湿法工艺中磁性膜NiFe层的侧向钻蚀问题，从而实现对磁轭几何尺寸的精确控制，并对几种工艺方法的优缺点作了比较详细的分析。
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| 关 键 词： | 磁轭 薄膜磁头 电化刻蚀 钻蚀 |
A STUDY OF MANUFATURE PROCESS OF THIN FILM MAGNETIC POLE |
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| Zhao Xiaolin, Zhou Di, Yang Chunsheng, Cai Bingchu.A STUDY OF MANUFATURE PROCESS OF THIN FILM MAGNETIC POLE[J].Microfabrication Technology,1997(3):58-62. |
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| Authors: | Zhao Xiaolin Zhou Di Yang Chunsheng Cai Bingchu |
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| Abstract: | Difference manufacture methods for fabricating the key element-thin film magnetic pole was discussed. Repeated photolithography were used to overcome the side over-etching problems of NiFe film in the wet process, realizing the precise control of the geometric size of magnetic pole. Also, the advantages anddisadvantages of different manufacture process were. analyzed in detail. |
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| Keywords: | magnetic pole magnetic film head electrochemistry-etching over-etching |
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