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| 0.7微米i线分步重复投影光刻曝光系统研制 | |
| 引用本文： | 陈旭南,姚汉民.0.7微米i线分步重复投影光刻曝光系统研制[J].微细加工技术,1997(4):1-7. |
| 作者姓名： | 陈旭南 姚汉民 |
| 作者单位： | 中国科学院光电技术研究所!成都，610209，中国科学院光电技术研究所!成都，610209，中国科学院光电技术研究所!成都，610209，中国科学院光电技术研究所!成都，610209 |
| 摘 要： | 本文介绍0．7μm线分步重复投影光刻曝光系统的技术指标、系统设计、研制中解决的关键单元技术和研制结果。结果表明工作波长365nm，缩少倍率5倍．曝光视场15mm×15mm．光刻工作分辨力0．6μm，并具有双路暗场同轴对准．又能精确分步投影光刻的曝光系统已研制成功。 |
| 关 键 词： | 07μm i线 分步重复投影光刻曝光 |
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