| 同步辐射X射线光刻实验研究 |
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| 引用本文： | 谢常青 叶甜春. 同步辐射X射线光刻实验研究[J]. 微细加工技术, 1997, 0(3): 10-13 |
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| 作者姓名： | 谢常青 叶甜春 |
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| 作者单位： | 中国科学院微电子中心BSRF联合光刻站!北京，100010，中国科学院微电子中心BSRF联合光刻站!北京，100010，中国科学院微电子中心BSRF联合光刻站!北京，100010 |
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| 基金项目： | 军用微电子重点预研资助 |
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| 摘 要： | 同步辐射X射线光刻是一种很好的深亚微米图形复制技术。本文报道了北京同步辐射装置3BlA光刻束线上的曝光结果，并对X射线掩模的制作工艺作了简要介绍。
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| 关 键 词： | X射线光刻 X射线掩模 同步辐射 |
STUDY ON SYNCHROTRON RADIATION X-RAY EXPOSURE EXPERIMENT |
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| Xie Changqing, Ye Tianchun, Chen Mengzhen. STUDY ON SYNCHROTRON RADIATION X-RAY EXPOSURE EXPERIMENT[J]. Microfabrication Technology, 1997, 0(3): 10-13 |
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| Authors: | Xie Changqing Ye Tianchun Chen Mengzhen |
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| Abstract: | Synchrotron radiation x-ray lithography is a promising technique for replication of deep sub-micron pattern. Some exposure experiment results finished inBeijing Synchrotron Radiation Facility 3B1A beamline are reported in this paper,and the fabrication process of x-ray mask is also introduced briefly. |
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| Keywords: | X-ray lithography x-ray mask synchrotron radiation |
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