| Ag—SiO2纳米复合薄膜微结构研究 |
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| 引用本文： | 李戈扬 吴亮. Ag—SiO2纳米复合薄膜微结构研究[J]. 微细加工技术, 1997, 0(4): 30-36 |
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| 作者姓名： | 李戈扬 吴亮 |
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| 作者单位： | 上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室!上海，200030，上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室!上海，200030，上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室!上海，200030，上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室!上海，200030，上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室!上 |
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| 基金项目： | 华东分析测试中心检测基金 |
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| 摘 要： | 本文采用基片可旋转并利用红外灯管加热基片多靶磁控溅射台的制备了不同成分及基片温度的Ag～Sio2复合薄膜。采用XRD、TEM、SEM等手段分析了薄膜的微观组织结构，并测定了薄膜的电阻率。研究结果表明：复合薄膜的微结构由多晶富Ag区和细密的Ag晶体和非晶SiO2混合物组成；室温下随SiO2含量的增加．薄膜中金属Ag呈网状分布．晶粒细化，电阻率上升；随基片温度的升高．复合薄膜中银晶体最终聚集成孤立的纳米颗粒；与微结构相对应，薄膜的电阻率可在大范围（102～106μΩcm）内变化。
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| 关 键 词： | 磁控溅射 Ag-SiO_2复合薄膜 纳米颗粒 微结构 |
A STUDY ON MICROSTRUCTURE OF Ag-SiO_2 NANOMETER COMPOSITE THIN FILMS |
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| Li Geyang, Wu Liang, Zhang Liuqiang,Shi Xiaoronig, Li Pengxing. A STUDY ON MICROSTRUCTURE OF Ag-SiO_2 NANOMETER COMPOSITE THIN FILMS[J]. Microfabrication Technology, 1997, 0(4): 30-36 |
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| Authors: | Li Geyang Wu Liang Zhang Liuqiang Shi Xiaoronig Li Pengxing |
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| Affiliation: | Shanghai Jiao Tong University. Shanghai. 200030 |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | magnetron sputtering Ag-SiO_2 composite thin films Nano-particle microstructure |
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