射频磁控溅射有机衬底SnO2∶Sb透明导电膜性能的研究 |
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引用本文: | 张士勇,马瑾,刘晓梅,马洪磊,郝晓涛. 射频磁控溅射有机衬底SnO2∶Sb透明导电膜性能的研究[J]. 功能材料, 2003, 34(4) |
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作者姓名: | 张士勇 马瑾 刘晓梅 马洪磊 郝晓涛 |
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作者单位: | 1. 长安大学,理学院,陕西,西安,710064 2. 山东大学,物理与微电子学院光电材料与器件研究所,山东,济南,250100 3. 山东大学,计算机科学与技术学院,山东,济南,250100 |
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基金项目: | 国家自然科学基金,教育部科学技术基金 |
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摘 要: | 采用射频磁控溅射法在聚丙烯己二酯有机薄膜(polypropylene adipate, PPA)衬底上低温制备出锑掺杂的氧化锡(SnO2∶Sb)透明导电膜.研究了薄膜的厚度效应对SnO2∶Sb薄膜的结构、光学和电学特性的影响.制备薄膜为多晶膜,并且保持了纯二氧化锡的金红石结构.载流子浓度和迁移率随着薄膜厚度的增加而增大,电阻率随着薄膜厚度的增加而减小,最低电阻率为 2×10-3Ω*cm.
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关 键 词: | 有机衬底 SnO2∶Sb透明导电膜 光电性质 |
Thickness effect influence on the properties of SnO2∶Sb films deposited on flexible substrates |
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Abstract: | |
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