| 头孢吡肟插层水滑石的缓释性能 |
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| 引用本文： | 孙志茵,倪哲明,李远,夏盛杰. 头孢吡肟插层水滑石的缓释性能[J]. 硅酸盐学报, 2013, 41(4): 521-526 |
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| 作者姓名： | 孙志茵 倪哲明 李远 夏盛杰 |
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| 作者单位： | 浙江工业大学化学工程与材料学院,杭州,310014 |
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| 摘 要： | 用共沉淀法将头孢吡肟(Cefepime)插层到含NO3–的Zn–Al水滑石(layered double hydroxides,LDHs)层间,组装得到杂化材料Cefepime-LDHs。X射线衍射结果表明:Cefepime-LDHs晶型良好,为典型的水滑石类层状材料,其层间距为2.18 nm。通过对Cefepime三维尺寸的理论模拟,推测该杂化材料中的Cefepime以沿长轴方向与层板呈一定角度倾斜的方式排布于水滑石层间。此外,与Cefepime相比,该杂化材料中层间药物的释放具有一定的缓释效果,缓释过程符合一级动力学及Higuchi扩散模型。
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| 关 键 词： | 水滑石 插层 头孢吡肟 缓释 |
Sustained-Release of Cefepime from Cefepime-Intercalated Layered Double Hydroxides |
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| SUN Zhiyin,NI Zheming,LI Yuan,XIA Shengjie. Sustained-Release of Cefepime from Cefepime-Intercalated Layered Double Hydroxides[J]. Journal of The Chinese Ceramic Society, 2013, 41(4): 521-526 |
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| Authors: | SUN Zhiyin NI Zheming LI Yuan XIA Shengjie |
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| Affiliation: | (College of Chemical Engineering and Materials Science,Zhejiang University of Technology,Hangzhou 310014,China) |
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