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中子辐照掺氮6H-SiC晶体的电学性能及退火的影响
引用本文:陈敬,阮永丰,李连刚,祝威,王鹏飞,侯贝贝,王帅. 中子辐照掺氮6H-SiC晶体的电学性能及退火的影响[J]. 硅酸盐学报, 2013, 41(6)
作者姓名:陈敬  阮永丰  李连刚  祝威  王鹏飞  侯贝贝  王帅
作者单位:1. 天津大学理学院,天津,300072
2. 天津商业大学理学院,天津,300134
摘    要:在60~80℃用剂量为1.67×1020n/cm2的全能谱中子对掺氮6H-SiC晶体进行了辐照,对辐照样品从室温至1600℃进行了等时退火,研究了辐照和退火对样品电学性能的影响.大剂量中子辐照在晶体内产生了大量缺陷和损伤,并引起样品的电学性能发生变化,使电阻率升高、介电常数和介电损耗减小.测试表明:在辐照缺陷及其电学性能的退火演化过程中,存在约为1 000和1400℃两个特征温度.当退火温度低于1 000℃时,随着退火温度的升高,电阻率小幅增加,而介电常数和介电损耗亦下降;在退火温度高于1 000℃时,电阻率开始下降.在退火温度高于1 400℃时,电阻率急剧地下降,而介电常数和介电损耗快速地增加.以间隙原子和空位为缺陷的主要形式作为辐照损伤的模型,对上述现象做了定性解释.测试还表明,掺氮6H-SiC的介电常数高达3.5 x 104,这一奇特的物性主要来源于电子的长程迁移极化.

关 键 词:掺氮碳化硅晶体  中子辐照  退火  电阻率  介电性能

Electrical Properties and Annealing Behavior of Nitrogen Doped 6H-SiC Crystals Irradiated by Heavy Neutron
Abstract:
Keywords:nitrogen doped silicon carbide crystal  neutron irradiation  annealing  resistivity,dielectric property
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