| MH 电极表面化学还原处理正交实验 |
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| 引用本文： | 陈卫祥.MH 电极表面化学还原处理正交实验[J].电源技术,1998(5). |
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| 作者姓名： | 陈卫祥 |
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| 作者单位： | 浙江大学材料科学与工程系 |
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| 基金项目： | 国家“863”计划资助项目 |
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| 摘 要： | 贮氢合金的表面性质对于合金的电化学应用是极为重要的。通过在碱性溶液中（６ｍｏｌ／ＬＫＯＨ）用次亚磷酸钠、硼氢化钾作为还原剂，对ＭＨ电极进行化学还原处理来改善电极的活化性能和提高电化学容量。通过正交实验分析讨论了化学还原处理各因素（还原剂浓度、处理温度和时间）对ＭＨ电极性能的影响并确定化学还原处理合适的工艺条件为：０．０５ｍｏｌ／ＬＫＢＨ４＋６ｍｏｌ／ＬＫＯＨ，处理温度为７０℃～８０℃，时间为７ｈ～８ｈ；或者０．２ｍｏｌ／ＬＮａＨ２ＰＯ２＋６ｍｏｌ／ＬＫＯＨ，处理温度为７０℃～８０℃，时间为７ｈ～８ｈ。
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| 关 键 词： | 贮氢合金，表面，MH电极，还原处理 |
Orthogonal experiment of chemical reducing treatment of MH electrode surface |
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| Chen,Weixiang.Orthogonal experiment of chemical reducing treatment of MH electrode surface[J].Chinese Journal of Power Sources,1998(5). |
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| Authors: | Chen Weixiang |
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| Affiliation: | Chen Weixiang Department of Materials Science and Engineering,Zhejiang University,Hangzhou 310027 |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | hydrogen storage alloy surface MH electrode reducing treatment |
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