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| ICP刻蚀技术在MEMS中的应用 | |
| 引用本文： | 贾萌,杨银,吴圣楠,刘汉伟. ICP刻蚀技术在MEMS中的应用[J]. 化工设计通讯, 2019, 0(1): 53-54 |
| 作者姓名： | 贾萌 杨银 吴圣楠 刘汉伟 |
| 作者单位： | 大连东软信息学院 |
| 摘 要： | MEMS系统和器件作为半导体行业中的尖端产品,在制造过程中,其刻蚀工艺成为MEMS器件制作中一个重要的环节,因此对其刻蚀过程中的参数选择变得越来越重要。应用ICP刻蚀机制备一个U型槽的刻蚀,研究上电级功率和压力对刻蚀效果的影响,进而影响MEMS器件的质量。做好实验记录,观察实验结果并分析,通过图片和其他数据参数反映MEMS器件的刻蚀效果与质量。 |
| 关 键 词： | ICP刻蚀 U型槽 MEMS传感器 |
Application of ICP Etching Technology in MEMS |
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