| 低温反应溅射Al+α-Al2O3复合靶沉积α-Al2O3薄膜 |
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| 引用本文： | 程奕天,邱万奇,周克崧,刘仲武,焦东玲,钟喜春,张辉.低温反应溅射Al+α-Al2O3复合靶沉积α-Al2O3薄膜[J].无机材料学报,2019,34(8):862-866. |
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| 作者姓名： | 程奕天 邱万奇 周克崧 刘仲武 焦东玲 钟喜春 张辉 |
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| 作者单位： | 华南理工大学 材料科学与工程学院, 广州 510640
广东省新材料研究所 现代材料表面工程技术国家工程实验室, 广东省现代表面工程技术重点实验室, 广州 510651 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金(51271079);广东省科技计划项目(2017B030314122);广州市科技计划项目(201607010091) |
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| 摘 要： | 低温沉积α-Al2O3薄膜是拓展其实际工程应用的关键。本研究以Al、α-Al2O3和Al + 15wt% α-Al2O3为靶材, 用射频磁控溅射在Si(100)基体上沉积氧化铝薄膜。用掠入射X射线衍射(GIXRD)、透射电子显微镜(TEM)、能谱仪(EDS)对所沉积薄膜的相结构和元素含量进行研究, 用纳米压痕技术测量薄膜硬度。结果表明, 在550 ℃的基体温度下, 反应射频磁控溅射Al+α-Al2O3靶可获得单相α-Al2O3薄膜。靶中的α-Al2O3溅射至基片表面能优先形成α-Al2O3晶核, 在550 ℃及以上的基体温度下可抑制γ相形核, 促进α-Al2O3晶核同质外延生长, 并最终形成单相α-Al2O3薄膜。
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| 关 键 词： | α-Al2O3 反应溅射 复合靶 低温沉积 纳米压痕 |
| 收稿时间： | 2018-10-10 |
| 修稿时间： | 2019-02-22 |
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