| 阴极弧径向不同位置膜层性能分布规律 |
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| 引用本文： | 魏永强,巩春志,田修波,杨士勤.阴极弧径向不同位置膜层性能分布规律[J].稀有金属材料与工程,2009,38(5):788-793. |
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| 作者姓名： | 魏永强 巩春志 田修波 杨士勤 |
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| 作者单位： | 哈尔滨工业大学,现代焊接生产技术国家重点实验室,黑龙江,哈尔滨,150001 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金，哈尔滨市优秀学科带头人基金 |
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| 摘 要： | 利用阴极弧沉积的方法在201不锈钢基体上制备了TiN薄膜,研究了阴极弧径向不同位置大颗粒、膜厚以及膜层性能的分布规律.分别采用X射线衍射(XRD)和扫描电子显微镜(SEM)分析了膜层的相结构、膜层的表面形貌和截面形貌.研究了镀膜试样和基体在3.5%(质量分数)NaCl溶液中的腐蚀行为,并利用电化学方法分析其抗腐蚀性能,并采用球-盘式摩擦磨损、划痕测试以及微小压痕等方法测试了径向不同位置沉积的TiN薄膜摩擦磨损性能、膜基结合力以及硬度.结果表明,靠近靶材中心的位置,膜层的硬度、厚度最大,电化学腐蚀电位最高,在径向夹角20°处的膜层厚度、硬度最小.在靠近出气位置侧沉积的TiN薄膜大颗粒数目较多,造成表面缺陷增加,TiN薄膜的抗腐蚀性能下降.靠近弧源中心位置沉积的膜层摩擦磨损系数较大,两侧处的膜层摩擦系数较小,膜基结合力与表面形貌和膜层厚度有很大关系.
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| 关 键 词： | 多弧离子镀 硬度 摩擦磨损 电化学腐蚀 |
| 收稿时间： | 2008/5/30 0:00:00 |
Uniformity of Thickness and Surface Properties of TiN Films Deposited by Vacuum Arc |
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| Wei Yongqiang,Gong Chunzhi,Tian Xiubo and Yang Shiqin.Uniformity of Thickness and Surface Properties of TiN Films Deposited by Vacuum Arc[J].Rare Metal Materials and Engineering,2009,38(5):788-793. |
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| Authors: | Wei Yongqiang Gong Chunzhi Tian Xiubo and Yang Shiqin |
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| Affiliation: | State Key Laboratory of Advanced Welding Production Technology;Harbin Institute of Technology;Harbin 150001;China |
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| Abstract: | During vacuum arc deposition processes, non-uniformity of thickness and surface properties of deposited films may be induced due to the line-of-sight of vacuum arc plasma. In this paper TiN films were deposited on AISI201 stainless steel horizontally located in front of the arc source and the uniformity of macroparticle, film thickness and surface properties is focused on. The phase structure, surface morphology and corrosion-resistance were analysized by XRD, SEM and electrochemical method. The frictional ... |
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| Keywords: | TiN |
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