| O2分压和退火对TiO2/SiO2纳米多层膜结构和光学性能的影响 |
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| 引用本文： | 张瑞奇,董磊,李德军,刘孟寅.O2分压和退火对TiO2/SiO2纳米多层膜结构和光学性能的影响[J].光电子．激光,2012(12):2355-2361. |
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| 作者姓名： | 张瑞奇 董磊 李德军 刘孟寅 |
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| 作者单位： | 天津师范大学物理与电子信息学院;天津师范大学物理与电子信息学院;天津师范大学物理与电子信息学院;天津师范大学物理与电子信息学院 |
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| 基金项目： | 天津师范大学实验室改革研究基金(B201107)资助项目 |
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| 摘 要： | 利用Mass软件设计了TiO2/SiO2纳米多层光学增透膜膜系,并采用高真空电子束蒸发系统在不同O2分压条件下制备了TiO2/SiO2纳米多层膜,TiO2/SiO2薄膜多层膜体系在沉积条件下获得了很好的宽光谱光学透射性能,在可见光谱范围内透射率接近设计值,平均透射率达到90%以上。通过一系列测试方法对多层膜退火前后的透射率、组分结构和退火以后的残余应力以及表面形貌进行了研究。实验结果表明:在较高O2分压条件下,由于多层膜结构中O空位的减少,使得多层膜透射率逐渐增加。在退火条件下,随着退火温度的增加,导致了表面均方根粗糙度(RMS)的增加以及晶粒的聚集长大,500℃时多层膜组分结晶化明显加强,使得缺陷增多;同时受退火温度的影响,残余应力逐渐增加,组分相互扩散加剧使得多层膜界面受到破坏。这些因素最终导致TiO2/SiO2多层膜的透射率逐渐降低。
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| 关 键 词： | O2分压 TiO2/SiO2纳米多层光学增透膜 电子束蒸发 透射率 |
Influence of O2 partial pressure and annealing treatment on structural and optical properties of TiO2/SiO2 multilayer |
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| ZHANG Rui-qi,LI De-jun and LIU Meng-yin.Influence of O2 partial pressure and annealing treatment on structural and optical properties of TiO2/SiO2 multilayer[J].Journal of Optoelectronics·laser,2012(12):2355-2361. |
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| Authors: | ZHANG Rui-qi LI De-jun and LIU Meng-yin |
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| Affiliation: | College of Physics and Electronic Information Science,Tianjin Normal University,Tianjin 300387,China;College of Physics and Electronic Information Science,Tianjin Normal University,Tianjin 300387,China;College of Physics and Electronic Information Science,Tianjin Normal University,Tianjin 300387,China;College of Physics and Electronic Information Science,Tianjin Normal University,Tianjin 300387,China |
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