| 微弧氧化工艺对锆合金表面陶瓷层厚度和形貌的影响 |
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| 引用本文： | 王双,郭锋,刘亮,杨晓利,刘红梅.微弧氧化工艺对锆合金表面陶瓷层厚度和形貌的影响[J].稀有金属材料与工程,2008,37(8). |
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| 作者姓名： | 王双 郭锋 刘亮 杨晓利 刘红梅 |
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| 作者单位： | 内蒙古工业大学,内蒙古,呼和浩特,010051 |
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| 摘 要： | 在磷酸盐电解液体系中制备了Zr-4合金的微弧氧化陶瓷层,研究了正负向电压、频率及氧化时间等工艺参数对陶瓷层的厚度和表面微观形貌的影响.结果表明:综合对陶瓷层厚度和表面质量的影响因素,适宜的工艺参数为正向电压520 V,负向电压160 V,频率250 Hz,氧化时间10 min.在此条件下,可得到厚度50μm左右的表面状况较好的陶瓷层.较高的正向电压和较长的氧化时间有利于提高膜层的厚度,而高的正负向电压、低频率和长时间的氧化,容易形成带有较大孔洞的火山状突起和穹状表面,膜层出现裂纹并且崩离的趋势增大,因此锆合金的微弧氧化需要有适当的工艺参数配合.
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| 关 键 词： | Zr-4合金 微弧氧化 工艺参数 陶瓷层厚度 表面形貌 |
Effect of Process Parameters on Thickness and Morphology of Micro-Arc Oxidation Ceramic Coating of Zirconium Alloy |
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| Wang Shuang,Guo Feng,Liu Liang,Yang Xiaoli,Liu Hongmei.Effect of Process Parameters on Thickness and Morphology of Micro-Arc Oxidation Ceramic Coating of Zirconium Alloy[J].Rare Metal Materials and Engineering,2008,37(8). |
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| Authors: | Wang Shuang Guo Feng Liu Liang Yang Xiaoli Liu Hongmei |
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