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Excess drain noise simulation in ultrathin oxides MOSFETs
Authors:T Contaret  G Ghibaudo  A Ferron  F B?uf
Affiliation:(1) IMEP, UMR CNRS/INPG/INPG/UJF, ENSERG, BP 257, 38016 Grenoble, France;(2) Silvaco data systems, Zirst II, 38330 Montbonnot St Martin, France;(3) STMicroelectronics, BP 16, 38921 Crolles, France
Abstract:
Keywords:Gate-leakage current noise model  Extrinsic channel noise model  Ultrathin oxides MOSFETs  Macroscopic noise model  Impédance field method
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