| 原位分散聚合制备纳米PANI-SiO2薄膜的性能 |
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| 引用本文： | 魏琦,王新,慕晶霞,范海军,吴其晔. 原位分散聚合制备纳米PANI-SiO2薄膜的性能[J]. 现代塑料加工应用, 2007, 19(5): 1-4 |
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| 作者姓名： | 魏琦 王新 慕晶霞 范海军 吴其晔 |
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| 作者单位： | 青岛科技大学教育部橡塑材料与工程重点实验室,山东,青岛,266042 |
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| 摘 要： | 采用纳米二氧化硅（SiO2）作空间稳定剂，通过苯胺的原位分散聚合在玻璃表面直接制备PANI-SiO2透明导电纳米复合膜。薄膜的表观形态和组成通过扫描电镜（SEM）、红外光谱分析（FTIR）、紫外可见光谱分析（UV-Vis）进行了表征。结果发现，薄膜的形成经历了成核、生长、生长饱和3个明显的过程，薄膜表面光滑致密，膜厚在3～300nm；SiO2对薄膜表面质量有良好改善作用，对薄膜的导电率稍有影响。此外对成膜机理进行了讨论。
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| 关 键 词： | 原位分散聚合 聚苯胺 纳米二氧化硅 薄膜 成膜机理 |
| 修稿时间： | 2007-04-13 |
Properties of PANI-SiO2 Films Prepared by In-Situ Dispersion Polymerization |
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| Wei Qi,Wang Xin,Mu Jingxia,Fan Haijun,Wu Qiye. Properties of PANI-SiO2 Films Prepared by In-Situ Dispersion Polymerization[J]. Modern Plastics Processing and Applications, 2007, 19(5): 1-4 |
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| Authors: | Wei Qi Wang Xin Mu Jingxia Fan Haijun Wu Qiye |
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| Affiliation: | Key Laboratory of Rubber-Plastics, Ministry of Education, Qingdao University of Science and Technology, Qingdao, Shandong,266042 |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | in-situ dispersion polymerization polyaniline nanometer silicon dioxide film formation mechanism |
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