| 一种新型深紫外正型光致抗蚀剂材料的研究 |
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| 引用本文： | 褚战星 程龙 王文君 王力元. 一种新型深紫外正型光致抗蚀剂材料的研究[J]. 感光科学与光化学, 2006, 24(5): 377-381 |
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| 作者姓名： | 褚战星 程龙 王文君 王力元 |
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| 作者单位： | [1]北京师范大学化学学院,北京100875 [2]北京化学试剂研究所,北京100022 |
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| 基金项目： | 国家“十五”“863”专项子课题（2002AA321330-2）. |
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| 摘 要： | 通过松香酸和丙烯酸的Diels—Alder反应得到了一种二酸——丙烯海松酸．丙烯海松酸有大的脂环结构和良好的成膜性，在固体膜层中，它可以和二乙烯基醚，如1，3-二乙烯氧基乙氧基苯，在加热条件下（80℃以上）发生反应，产物在稀碱水中难溶．这样形成的产物在光产酸剂产生的强酸催化下，在温度高于100℃时，可以迅速分解，从而变成稀碱水易溶．因此，用此二酸、二乙烯基醚和产酸剂可组成一种正型的光致抗蚀剂，当用254nm的低压汞灯曝光时，其感度在30mJ／cm^2以下．
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| 关 键 词： | 正型光致抗蚀剂 二乙烯基醚 丙烯海松酸 光产酸剂 |
| 文章编号： | 1000-3231（2006）05-0377-05 |
| 收稿时间： | 2006-03-01 |
| 修稿时间： | 2006-05-10 |
Studies on a Novel Deep UV Positive Photoresist Material |
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| CHU Zhan-xing, CHENG Long, WANG Wen-jun, WANG Li-yuan. Studies on a Novel Deep UV Positive Photoresist Material[J]. Photographic Science and Photochemistry, 2006, 24(5): 377-381 |
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| Authors: | CHU Zhan-xing CHENG Long WANG Wen-jun WANG Li-yuan |
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| Affiliation: | 1. Chemistry College of Beijing Normal University, Beijing 100875, P. R. China ; 2. Beijing Institute of Chemical Reagents, Beijing 100022, P. R. China |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | positive photoresist divinyl ether acrylpimaric acid photoacid generator |
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