| 退火对无氢钛掺杂类金刚石(Ti-DLC)膜结构及性能的影响 |
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| 引用本文： | 徐均琪,李传志,严一心,刘衡平.退火对无氢钛掺杂类金刚石(Ti-DLC)膜结构及性能的影响[J].真空,2009,46(2). |
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| 作者姓名： | 徐均琪 李传志 严一心 刘衡平 |
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| 作者单位： | 西安工业大学光电工程学院,陕西,西安,710032 |
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| 摘 要： | 利用非平衡磁控溅射复合靶技术制备了一系列掺钛的无氢类金刚石(Ti-DIE)薄膜,并对薄膜的热稳定性能、机械性能、应力分布以及表面形貌进行了研究.实验结果表明:退火处理对Ti-DIE膜的性能具有重要影响.随着热处理温度的升高,成膜晶粒逐渐细化,电阻率上升但至一定值后趋于稳定.退火温度的升高,会促使薄膜应力逐渐减小,硬度变低,但其耐火温度可以达到600℃以上而不发生石墨化,这一结果为DLC膜在高温环境下的应用提供了一定思路.
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| 关 键 词： | 类金刚石膜 非平衡磁控溅射 钛掺杂 复合靶 热稳定性 |
Effect of annealing on structure and properties of Ti-doped hydrogen-free DLC films |
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| XU Jun-qi,LI Chuan-zhi,YAN Yi-xin,LIU Heng-ping.Effect of annealing on structure and properties of Ti-doped hydrogen-free DLC films[J].Vacuum,2009,46(2). |
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| Authors: | XU Jun-qi LI Chuan-zhi YAN Yi-xin LIU Heng-ping |
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