| 铁钝化膜厚度的电化学和光电化学测量 |
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| 引用本文： | 张国栋,郭万华,姚文锐.铁钝化膜厚度的电化学和光电化学测量[J].安徽工业大学学报,1990(4). |
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| 作者姓名： | 张国栋 郭万华 姚文锐 |
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| 作者单位： | 华东冶金学院化学工程系，华东冶金学院化学工程系，华东冶金学院化学工程系 |
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| 摘 要： | 本文用电化学和光电化学方法研究了在硼酸/硼酸钠溶液中铁钝化膜厚度和成膜电位的关系。指出铁钝化膜由两层氧化物组成,内层为具有导电体性质的Fe_3O_4,外层为具有半导体性质的Fe_2O_3,在钝化区的电位范围内,内层Fe_3O_4的厚度和成膜电位无关,而外层Fe_2O_3的厚度和成膜电位成正比关系。
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| 关 键 词： | 铁钝化膜 双层结构 膜厚测量 |
Electrochemical and Photoelectrochemical Measures of the Thickness of Iron Passive Film |
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| Zhang Guodong Guo Wanhua Yao Weurui.Electrochemical and Photoelectrochemical Measures of the Thickness of Iron Passive Film[J].Journal of Anhui University of Technology,1990(4). |
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| Authors: | Zhang Guodong Guo Wanhua Yao Weurui |
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| Affiliation: | Chemical Engineering Department |
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| Keywords: | Passive film on iron Measnre of the film thickness |
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